- Sections
- H - électricité
- H05H - Technique du plasma; production de particules électriquement chargées accélérées ou de neutrons; production ou accélération de faisceaux moléculaires ou atomiques neutres
- H05H 1/46 - Production du plasma utilisant des champs électromagnétiques appliqués, p.ex. de l'énergie à haute fréquence ou sous forme de micro-ondes
Détention brevets de la classe H05H 1/46
Brevets de cette classe: 2688
Historique des publications depuis 10 ans
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202
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172
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195
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191
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263
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226
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179
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146
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172
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87
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| 2015 | 2016 | 2017 | 2018 | 2019 | 2020 | 2021 | 2022 | 2023 | 2024 |
Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Tokyo Electron Limited | 11599 |
572 |
| Applied Materials, Inc. | 16587 |
193 |
| Lam Research Corporation | 4775 |
98 |
| Nissin Electric Co., Ltd. | 213 |
54 |
| ULVAC, Inc. | 1448 |
46 |
| Tohoku University | 2526 |
41 |
| Hitachi Kokusai Electric Inc. | 1070 |
33 |
| Canon Anelva Corporation | 676 |
30 |
| Kokusai Electric Corporation | 1791 |
29 |
| Advanced Energy Industries, Inc. | 403 |
28 |
| Kyosan Electric Mfg. Co., Ltd. | 167 |
28 |
| MKS Instruments, Inc. | 698 |
28 |
| AES Global Holdings, Pte. Ltd. | 139 |
25 |
| Hitachi High-Tech Corporation | 4424 |
25 |
| National University Corporation Nagoya University | 921 |
22 |
| Sharp Kabushiki Kaisha | 18957 |
21 |
| Shimadzu Corporation | 5791 |
18 |
| Plasmology4, Inc. | 46 |
17 |
| Daihen Corporation | 435 |
16 |
| EMD Corporation | 26 |
16 |
| Autres propriétaires | 1348 |